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PHI 硬X射線(xiàn)光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs)，結合使用 XPS(Al Ka X射線(xiàn))和 HAXPES(Cr Ka x射線(xiàn))對同一微觀(guān)特征區域進(jìn)行分析，可以對 QDs 進(jìn)行詳細的深度結構分析。

PHI公司的PHI 710俄歇電子能譜儀是一臺設計高性能的俄歇電子能譜（AES）儀器。該設備能分析納米級特征區域,超薄薄膜和多層結構表界面的元素態(tài)和化學(xué)態(tài)信息。

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀PHI nano TOF3+，先進(jìn)的多功能TOF-SIMS具有更強大的微區分析能力，更加出色的分析精度

PHI X射線(xiàn)光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶(hù)體驗，儀器高性能、全自動(dòng)化、簡(jiǎn)單易操作。 操作界面可在同一個(gè)屏幕內設置常規和高級的多功能測試參數，同時(shí)保留諸如進(jìn)樣照片導航和 SXI 二次電子影像精細定位等功能。

C60-40 離子源系統 是目前性能較高的C60光束，具有300納米的光斑尺寸和高達1毫安的束流。從生物醫學(xué)應用到聚合物科學(xué)和冶金，C60-40都可以做到這一點(diǎn)。得益于與其他C60離子束相同的均勻濺射，但由于更高的束能量，C60-40具有難以置信的精細斑點(diǎn)和更高的蝕刻率，是一種用于廣泛應用的極其強大的分析工具。

lonoptika公司的C60-20 離子源系統是一種高性能的20kV離子束系統，用于高化學(xué)復雜性樣品的SIMS分析。C60-20是一種功能強大，成本效益高的分析離子束系統，可以較大限度地利用SIMS分析。